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氧化铟锡靶材 旋转ITO靶材 高密度ito靶(95:5wt%)
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氧化铟锡靶材 旋转ITO靶材 高密度ito靶(95:5wt%)

溅射靶材是用溅射法沉积薄膜的原材料,主要应用于面板显示、半导体和磁记录薄膜太阳能领域。高纯溅射靶材是广泛应用于半导体、磁记录、平面显示等领域的核心材料,市场前景广阔。电子行业的发展,使得我国已逐渐成为了世界上薄膜靶材的大需求地区之一,但在高端靶材我国尚没有成熟的生产商,主要依赖进口,市场空间巨大。

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  • 供货总量: 9999件
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    广东 广州 花都区 花都区花山镇华侨工业区
产品特性:高密度ito工件材质:陶瓷靶材类型:真空镀
货号:尤特新材打样周期:8-15天加工周期:8-15天
年最大加工能力:9999件年剩余加工能力:9999件品牌:UVTM

溅射靶材是用溅射法沉积薄膜的原材料,主要应用于面板显示、半导体和磁记录薄膜太阳能领域。高纯溅射靶材是广泛应用于半导体、磁记录、平面显示等领域的核心材料,市场前景广阔。2017-2019年,靶材市场需求量以每年超过30%的速度快速增长。电子行业的发展,使得我国已逐渐成为了世界上薄膜靶材的大需求地区之一,但在高端靶材我国尚没有成熟的生产商,主要依赖进口,市场空间巨大。尤***望打破这一局面,成为靶材***的企业。



成型工艺: 冷等静压+高温烧结+帮定
密度: ≥ 7.13g/cm3(≥99.7%)
纯度: ≥ 99.***
应用: 主要用于TN,STN型液晶显示器和触摸屏,半导体电子,薄膜太阳能行业,建筑玻璃

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