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| 产品特性：ito靶材 | 工件材质：异质结 | 类型：真空镀 |
| 货号：UVTM | 打样周期：8-15天 | 加工周期：8-15天 |
| 年最大加工能力：800000件 | 年剩余加工能力：800000件 | 品牌：UVTM |
光伏薄膜电池用靶材主要为方形板状，纯度要求一般在99.***（4N）以上，仅次于半导体用靶材。目前制备薄膜电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶(氧化铝锌)等。目前国内光伏电池主要以硅片涂覆型太阳能电池为主，薄膜电池以及HIT占比较低，但是从目前的发展趋势来看，潜力很大。
光伏领域对靶材的使用主要是薄膜电池和HIT光伏电池。其中光伏薄膜电池用靶材主要为方形板状，仅次于半导体用靶材。高了材料利用率和生产效率,是一种规模化生产CIGSSe太阳能电池的有效方法。能带较难调节、薄膜晶粒难以生长等问题。这些因素制约了单靶溅射制备CIGSSe电池器件性能的提升。极,在基底半导体Si上形成势垒作为SIS结的一层以及抗反射层。
