| 产品特性：ito靶材 | 工件材质：ito靶材 | 类型：真空镀 |
| 货号：UVTM | 打样周期：8-15天 | 加工周期：8-15天 |
| 年最大加工能力：9999件 | 年剩余加工能力：9999件 | 品牌：UVTM |
Ln-IZO靶材：Ln-IZO靶材通过磁控溅射技术制备氧化物薄膜，作为薄膜晶体管(TFT)有源层，具有良好的迁移率和稳定性，AMOLED、电子纸等高端显示的需求，LTPS有源层有工艺简单、成本低、均匀性好等优势。导体沟道层材料。国内企业目前通过相关认证，部分切入下游企业。溅射靶材的品质和稳定性要求很高，对供应商资格认证壁垒较高。大尺寸电视及智能手机需求的增长，平板显示器尺寸迅速增大，推动平板显示器行业规模不断增大，市场规模增速达到20%。带动上游靶材需求增长。
据预测，未来几年HDD的出货总容量依然会保持增长态势。受机械硬盘出货容量增长的带动，记录媒体靶材需求稳定增长。薄膜太阳能电池转化效率存在提升空间。靶材需求。论值，而薄膜太阳能电池的转化效率在逐年提高。据预测，年会呈现逐年递增的趋势，并于2023年突破395亿美元大关。平板显示靶材需求增加。UVTM已掌握了铜、铝等溅射靶材原材料提纯的核心技术。
氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO
