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TFT靶材定制 冷喷涂铝管靶 旋转铝靶(Al Sputtering Target)
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TFT靶材定制 冷喷涂铝管靶 旋转铝靶(Al Sputtering Target)

应用:主要用于表面装饰及功能镀膜以及蒸镀材料,半导体电子,TFT,平面显示产品化学成分和物理性能:化学式:Al成型工艺:喷涂密度:>2.6g/cm3纯度:>99.9%直型、狗骨型包装方式:真空密封包装,使用标准出口木箱。

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    广东 广州 花都区 花都区花山镇华侨工业区
产品特性:铝金属靶材种类:铝管材材质:Al
产地:广东广州规格:纯度: > 99.9%货号:UVTM
用途:主要用于表面装饰及功能镀膜以及蒸镀材料,半导体电子, TFT, 平面显示 品牌:尤特新材料

TFT靶材定制 冷喷涂铝管靶 旋转铝靶(Al Sputtering Target)详细介绍

应用:主要用于表面装饰及功能镀膜以及蒸镀材料,半导体电子, TFT, 平面显示

 

产品化学成分和物理性能

化学式:Al

成型工艺:喷涂

密度:  >2.6g/cm3

纯度:  > 99.9%

杂质含量 (单位:  ppm, 总杂质含量≤ 1000ppm)

 

 长度L 4000MM    厚度T6-13MM

直型、狗骨型

按客户要求定做

 

包装方式:真空密封包装,使用标准出口木箱。

 

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