| 产品特性：喷涂靶材 | 工件材质：各种金属靶 | 类型：真空镀 |
| 打样周期：8-15天 | 加工周期：8-15天 | 年最大加工能力：999件 |
| 年剩余加工能力：999件 |
尤特可根据客户要求定制各种二元靶材、三元靶材和多元靶材，应用于多个领域：电子电路板领域、薄膜太阳能领域和芯片领域。
尤特可生产的多元靶材有：铬硅靶材、硅铬靶材、铬铝硅靶材、硅锆铝靶材、硅铝锆靶材、铬硅锆靶材、硅铌铽靶材等，并可根据客户需求共同研发，欢迎客户前来咨询。
成型工艺: 喷涂
密度: ≥ 2.26g/cm?（≥96%）
纯度: ≥ 99.9%
应用: 用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏
