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| 产品特性：合金靶材 | 工件材质：MoNb | 类型：真空镀膜加工 |
| 货号：UVTM | 打样周期：8-15天 | 加工周期：8-15天 |
| 年最大加工能力：999件 | 年剩余加工能力：998件 |
钼铌靶材（MoNb Sputtering Target）应用:广泛用于光学玻璃、触摸屏玻璃膜系、导电玻璃、TFT-LCD、触摸屏、电子行业等。多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做。尤特钼铌靶材采用热压+烧结的成型工艺。
应用: 广泛用于光学玻璃、触摸屏玻璃膜系、导电玻璃、TFT-LCD 、触摸屏、电子行业等。
产品化学成分和物理性能
化学式: MoNb
成型工艺: 热压+烧结
密度: ≥9.3g/cm?
纯度: 99.95%
杂质含量（单位: ppm，总杂质含量≤ 500ppm)
