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供应旋转银靶 喷涂银靶加工 5N高纯靶材(Ag Sputtering Target)
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供应旋转银靶 喷涂银靶加工 5N高纯靶材(Ag Sputtering Target)

产品化学成分和物理性能:化学式:Ag成型工艺:喷涂密度:>10.5g/cm3纯度:>99.***杂质含量(单位:ppm,总杂质含量≤100ppm)

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  • 发货地:广东 广州
  • 发货期限:15天内发货
  • 供货总量: 999千克
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    广东 广州 花都区 花都区花山镇华侨工业区
产品特性:高纯银靶材品种:纯银规格:1000mm
纯度:99.99%货号:UVTM光洁度:0,01
抗拉度:500延伸力:500

旋转银靶 Rotatable Ag target

应用:主要用于Low-E玻璃膜系,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT,半导体


产品化学成分和物理性能:
化学式:Ag
成型工艺:喷涂
密度: > 10.5g/cm3
纯度: > 99.***
杂质含量 (单位: ppm, 总杂质含量≤ 100ppm)


加工尺寸

长度L 4000MM 厚度T 6-13MM
直型、狗骨型
按客户要求定做

包装方式:真空密封包装,使用标准出口木箱。

 

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