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| 产品特性：金属靶材 | 工件材质：金属靶材 | 类型：真空镀 |
| 货号：UVTM | 打样周期：8-15天 | 加工周期：8-15天 |
| 年最大加工能力：9999件 | 年剩余加工能力：9999件 | 品牌：UVTM |
很多***科技发展几乎都离不开真空技术，如宇宙空间技术、微电子技术、纳米技术、真空冶金等......涉及化学工业、制盐、食品、制冷工业等等各个领域、应用面极为广泛。一个真空设备，经过相当长时间的抽气之后仍然达不到预期的真空度，可能是由于以下三个主要原因引起的，真空测量、真空获得和真空检漏。
真空测量是真空设备眼睛，测量仪表使用好坏直接反映设备真空运行状态。镀膜设备真空获得是真空设备基础，真空获得设备性能好坏直接影响真空设备极限真空度。真空检漏是***真空设备正常运行好坏重要手段，换句话说：真空检漏是真空获得的***。以上三种因素中任何一个要素出问题时，真空设备真空获得和维持都变得十分困难。要解决这个矛盾。
旋转银靶、平面银靶
成型工艺: 喷涂、一体成型
密度: ≥ 10.4g/cm?(≥***)
纯度: ≥ 99.***
应用: 主要用于Low-E镀膜玻璃, 薄膜太阳能行业, TFT-LCD, 半导体电子
