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| 产品特性：高纯钕靶材 | 工件材质：高纯钕靶材 | 类型：真空镀 |
| 货号：UVTM | 打样周期：4-7天 | 加工周期：4-7天 |
| 年最大加工能力：8888件 | 年剩余加工能力：8888件 | 品牌：UVTM |
什么是靶材，如何应用于半导体行业？高纯度溅射靶材主要应用于电子元器件制造。中国有超过20家靶材生产企业，但是却没有一家可以生产出超过40英寸的靶材。中国ITO靶材被国外供应商垄断，国产靶材市场份额仅约5%。ITO靶材生产的主要原料为稀有金属铟，中国是世界上大的铟金属资源和生产国，占世界份额80%。在靶材领域，日本的日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯占据了大部分市场。尽管全世界各大厂生产的材料几乎都能99.***的纯度。但却***日本厂商的材料能将纯度达到99.9***。
钕铝靶材应用:广泛用于光学玻璃，触摸屏玻璃膜系，导电玻璃，TFT-LCD，触摸屏，半导体电子。加工尺寸：长度L2500*宽度W300*厚度T25mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做。
钕铝合金靶 钕铝平面靶 钕铝绑定靶材（UVTM）
